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国家科学技术奖励大会于2018年1月8日上午在北京人民大会堂隆重举行。微电子所与武汉新芯集成电路制造有限公司、复旦大学共同完成的“ 22-14纳米集成电路器件工艺先导技术”项目获得2017年国家技术发明二等奖。项目以国家科技重大专项02专项支持为契机,针对核心器件微缩过程中的一系列关键性的短沟道效应和性能挑战,开展了自主创新研发,攻克了后高k金属栅、 22纳米平面器件集成技术、 14纳米三维FinFET关键技术等技术难关,创新发明多项关键技术。
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