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SILICIDE
2013-09-22 | 编辑: | 【 【打印】【关闭】

  金属硅化物 1. 定义:Silicide通常指金属硅化物,为金属与硅之化合物。2. 目的:在微电子工业硅晶集成电路中主要用为2-1导体接触(Ohmic Contact)2-2单向能阻接触(Schottky Barrier Contact)2-3低阻闸极(Gate Electrode)2-4组件间通路(Interconnect)在VLSI(超大规模集成电路)时代中,接面深度及接口接触面积分别降至次微米及1~2平方毫米,以往广泛应用为金属接触的Al,由于严重的川入半导体问题,在VLSI中不再适用。再加上其它技术及应用上的需求,金属硅化物在集成电路工业上日亦受到重视。由于集成电路中之金属硅化物限于近贵重(Pt,Pd、Co、Ni、…)及高温金属(Ti、W、Mo、Ta)硅化物。



 
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