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X-RAY LITHOGRAPHY X光微影技术
2014-04-11 | 编辑: | 【 【打印】【关闭】

  在次微米微影成像技术中,X-射线微影技术备受瞩目。由于X-射线之波长甚短(约4~10?),故可得甚佳之解析力,同时亦无干涉及绕射现象,因此可制作次微米线宽之IC图案。这种以X-射线为曝光光源之微影技术目前仍在开发中。由于X-射线穿透力甚强,,其光照图案不再是铬膜,而是一般大都为“金”。

  



 
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